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淺談光敏印章的制造原理

編輯:東莞市益鴻文具有限公司時間:2019-12-11

  光敏印章是20世紀90年代初有日本發明的,是由一種特殊的化工組成材料,通過專用設備瞬間宣布強光輻射,使材料外表發作光氧化及熱交聯效果然后制造成的印章。

  專用的光敏印章材料(光敏平面橡膠)是一種超微泡材料,其外表的為空孔徑十分小,均勻孔徑小于30um。自身具有儲油滲油及光閃爍特性。光敏材料在收到強光照射的時候,能夠吸收光能并轉換成熱能。曝光時,光敏材料外表見光部分瞬間吸收大量的光能后,溫度敏捷上升并達到熔點。閃光結束后,外表溶體的溫度敏捷下降,構成必定厚度和強度的薄膜,這層薄膜一起起到封孔閉空的效果,并阻隔印油的浸透。

  利用光敏材料的特征,用激光打印機將章稿打印在具有透光特征的硫酸紙或激光膠片上,將其掩蓋在光敏材料上后放在曝光機內曝光,因為章稿圖文自身具有黑度不能曝光,因而長高圖文掩蓋的光敏材料沒有遭到光照仍然能夠儲油滲油,而其他部分則因為遭到光照發作凝結不能滲油,然后完成了印章的制造。因為激光打印機的打印精度在1200DPI以上,加之光敏材料自身的超微孔結構,因而,光敏印章的精度比采用激光雕刻的印章(如國產原子印章、浸透?。┗蚱渌寄芊椒ㄖ圃斓挠≌碌木雀叱鲈S多,是前制造精度較高的一種印章。

  光敏印章的印面有頂面和底面構成。頂面有細微細密的敞開微孔構成,均勻孔徑小魚30Um;底面成黑色,滑潤平整,其外表必定厚度和強度的薄膜構成。這層薄膜起到封孔閉孔、阻隔印油浸透的效果,與頂面堅持0.1~0.3mm的水平深度。

  光敏印章是依據設計圖畫制造而成,印章圖畫有圖文和空白區構成。圖文區制成印章頂面,空白區制成印章底面。頂面微孔中的印油在蓋印壓力效果下從微孔中深處構成印跡,但制造印章過程中出現在空白的細微臟點,可導致該部位為空不能封閉,成凸面開孔,構成瑕疵點印跡。

英文光敏印章

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